[发明专利]显影设备的排气系统及其调节机构在审
| 申请号： | 201710649283.6 | 申请日： | 2017-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN107357139A | 公开（公告）日： | 2017-11-17 |
| 发明（设计）人： | 张瑞军;王松;莫超德;范志翔 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种显影设备的排气系统及其调节机构。所述调节机构的壳体内设有气流通道，气流通道的两端分别设有第一开口和第二开口，第一开口面积大于第二开口面积，且第二开口数量为多个，第一开口或第二开口与排气系统的排气口匹配相通。基于此，本发明能够对显示设备均匀排气，避免因显影腔体内气流紊乱导致的光阻断线问题，从而降低刻蚀制程中出现电路图案断路的几率。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 设备 排气 系统 及其 调节 机构 | ||
【主权项】：
一种显影设备的排气系统，其特征在于，所述排气系统包括：多个排气口，沿着待显影基板的流水线方向依序设置；排气机构，分别设置于每个所述排气口，并使得所述排气口的排气能力沿着所述流水线方向依序增强；调节机构，所述调节机构包括壳体，所述壳体内设有气流通道，所述气流通道的两端分别设有第一开口和第二开口，所述第一开口面积大于所述第二开口面积，且所述第二开口数量为多个，所述第一开口或所述第二开口与所述排气口匹配相通。
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