[发明专利]一种阴离子型防紫外线辐射的水溶性添加剂及其制备方法有效
| 申请号： | 201710653495.1 | 申请日： | 2017-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN107602914B | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 戎佳萌;陶灿;徐杰;王继印;贾娟;潘轸 | 申请（专利权）人： | 合肥思敬齐化工材料有限责任公司 |
| 主分类号： | C08K5/205 | 分类号： | C08K5/205;C08K5/42;C09D7/63;C09J11/06;C07C271/24;C07C309/46;C07C309/14;C07C303/32;C07C269/02 |
| 代理公司： | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人： | 张清彦 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开一种阴离子型防紫外线辐射的水溶性添加剂及其制备方法，该制备方法包括以下步骤：将有机防紫外线助剂与二异氰酸酯置于反应器中，加入丁酮和催化剂，搅拌反应，分离得到中间体；将中间体投入到反应器中，加入含有‑OH反应基团且具有‑COOH化合物或含有‑NH2反应基团且具有‑SO3Na化合物，加入丁酮和催化剂，反应；当加入的是含有‑OH反应基团且具有‑COOH化合物时，加入三乙胺中和，即可得到羧酸型水溶性添加剂；当加入的是含有‑NH2反应基团且具有‑SO3Na化合物时，洗涤，即得磺酸型水溶性添加剂。采用本发明的水溶性添加剂，可有效避免有机溶剂的使用，减少了对环境的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 水溶性添加剂 反应基团 制备 防紫外线辐射 阴离子型 反应器 丁酮 催化剂 二异氰酸酯 搅拌反应 有机溶剂 磺酸型 三乙胺 紫外线 羧酸 洗涤 中和 污染 | ||
【主权项】：
1.一种阴离子型防紫外线辐射的水溶性添加剂，其特征在于其结构式为所示：![]()
式中R1结构可为下列结构之一：![]()
式中R2结构可为下列结构之一：![]()
式中R3结构可为下列结构之一：![]()
式中R4结构可为下列结构之一：![]()
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