[发明专利]气体供给装置和气体供给方法

摘要

本发明在防止成膜时原料气体所需的流量增大的同时，提高用于置换处理容器(11)内的气氛的置换气体的流量。气体供给装置包括：分别对处理容器内供给原料气体、反应气体的原料气体流路(41)、反应气体流路(61)；与原料气体流路和反应气体流路分别连接的第一载气流路(51)和第二载气流路(71)；置换气体流路(45)，其经由与设置在第一载气流路和第二载气流路中的载气的供给控制装置不同的另外的供给控制装置，对处理容器内供给置换气体；设置在置换气体流路(45、65)中，储存置换气体的储气部(46、66)；在置换气体流路中设置于储气部的下游侧的阀(V2、V6)；和控制阀的开闭的控制部(100)。

主权项

一种气体供给装置，其用于对真空气氛的处理容器内的衬底以多个循环依次地供给原料气体、用于置换气氛的置换气体和与所述原料气体反应而在所述衬底上生成反应生成物的反应气体，所述气体供给装置的特征在于，包括：用于对所述处理容器内供给所述原料气体的原料气体流路；用于对所述处理容器内供给所述反应气体，且与所述原料气体流路独立设置的反应气体流路；分别与所述原料气体流路和所述反应气体流路连接，用于供给载气的第一载气流路和第二载气流路；置换气体流路，其经由与设置在所述第一载气流路和第二载气流路中的载气的供给控制装置不同的另外的供给控制装置，对所述处理容器内供给所述置换气体；设置在所述置换气体流路中，储存所述置换气体的储气部；在所述置换气体流路中设置于所述储气部的下游侧的阀；和控制部，其控制所述阀的开闭，以使得在所述储气部内因储存了所述置换气体而升压之后，从所述储气部将所述置换气体供给到所述处理容器内。