[发明专利]抗反射结构、显示装置及抗反射结构制作方法在审
| 申请号： | 201710657046.4 | 申请日： | 2017-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN109387889A | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 贵炳强;曲连杰;齐永莲;王美丽;赵合彬;邱云 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种抗反射结构、显示装置及抗反射结构制作方法。该抗反射结构包括基片、第一微结构和第二微结构。第一微结构呈周期性地设置于所述基片上，第二微结构填充于所述第一微结构之间以覆盖所述基片，且使得所述抗反射结构具有平坦的表面。所述第一微结构和所述第二微结构的折射率不同且配置为整体上使所述抗反射结构对预定波长的光的反射率相对于所述基片对预定波长的光的反射率低。该抗反射结构在实现抗反射效果的同时具有较强的防刮伤能力。 | ||
| 搜索关键词： | 抗反射结构 微结构 显示装置 预定波长 反射率 抗反射效果 防刮伤 折射率 填充 制作 平坦 覆盖 配置 | ||
【主权项】：
1.一种抗反射结构，包括：基片；第一微结构，呈周期性地设置于所述基片上；以及第二微结构，填充于所述第一微结构之间以覆盖所述基片，且使得所述抗反射结构具有平坦的表面；其中，所述第一微结构和所述第二微结构的折射率不同且配置为整体上使所述抗反射结构对预定波长的光的反射率比所述基片对预定波长的光的反射率低。
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