[发明专利]一种光刻胶的去除液及光刻胶的去除方法在审
| 申请号： | 201710657370.6 | 申请日： | 2017-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN109388036A | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 温子瑛;孙富成;王致凯 | 申请（专利权）人： | 无锡华瑛微电子技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 无锡中瑞知识产权代理有限公司 32259 | 代理人： | 张倪涛 |
| 地址： | 214135 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶的去除液以及使用该去除液进行光刻胶去除的方法，该去除液包括氨和有机溶剂，所述氨为氨气、液氨或者氨与水的混合物，所述有机溶剂为至少具有一个吸电子官能团的有机溶剂，该去除方法可以是通过在线气液混合产生上述去除液，直接应用到带有光刻胶的晶圆表面，进行光刻胶的去除和晶圆表面清洗。本发明采用对衬底材料/衬底金属低/无腐蚀性的有机溶剂，以及氨的性质，提高湿法去胶对光刻胶和聚合物的去除效果的同时，降低对晶圆衬底的腐蚀。可以提高工艺良品率，并为更小的工艺特征尺寸的发展提供了有效的解决方案。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶 去除液 有机溶剂 去除 晶圆表面 衬底 吸电子官能团 氨气 光刻胶去除 衬底材料 工艺特征 气液混合 混合物 聚合物 良品率 胶和 晶圆 去胶 湿法 液氨 清洗 腐蚀 金属 应用 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶的去除液，其特征在于：包括氨和有机溶剂，所述氨为氨气、液氨或者氨与水的混合物，所述有机溶剂为至少具有一个吸电子官能团的有机溶剂。
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