[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201710659295.7 | 申请日: | 2017-08-04 |
公开(公告)号: | CN108417614B | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
发明(设计)人: | 玉城朋宏;中村和敏;下条亮平 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/739 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 有关实施方式的半导体装置具有第1电极、多个第1区域、多个第2区域、第1导电型的第8半导体区域、第2导电型的第9半导体区域、第1导电型的第10半导体区域、多个第2电极及第3电极。第1区域具有第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第1导电型的第3半导体区域、第2导电型的第4半导体区域及栅极电极。第2区域具有第2导电型的第5半导体区域、第2导电型的第6半导体区域及第1导电型的第7半导体区域。第1区域和第2区域交替地设置。第8半导体区域与多个第1半导体区域电连接。第3电极具有隔着第1绝缘层设在第10半导体区域之上的布线部。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,具备:第1电极;多个第1区域,上述多个第1区域分别包括:设在上述第1电极之上的第1导电型的第1半导体区域;设在上述第1半导体区域之上的第2导电型的第2半导体区域;设在上述第2半导体区域之上的第1导电型的第3半导体区域;设在上述第3半导体区域之上的第2导电型的第4半导体区域;及设在上述第2半导体区域之上的栅极电极,上述栅极电极在与从上述第1半导体区域朝向上述第2半导体区域的第1方向垂直的第2方向上隔着栅极绝缘层而与上述第3半导体区域面对,上述多个第1区域在上述第2方向及第3方向上相互隔开间隔,上述第3方向与上述第1方向及上述第2方向垂直;多个第2区域,上述多个第2区域在上述第2方向及上述第3方向上相互隔开间隔,上述多个第1区域及上述多个第2区域在上述第2方向上交替地设置,上述多个第2区域分别包括:设在上述第1电极之上的第2导电型的第5半导体区域;设在上述第5半导体区域之上的第2导电型的第6半导体区域;及设在上述第6半导体区域之上的第1导电型的第7半导体区域;第1导电型的第8半导体区域,上述第8半导体区域在上述第3方向上设在上述第1半导体区域彼此之间及上述第5半导体区域彼此之间,上述第8半导体区域与上述多个第1半导体区域电连接:第2导电型的第9半导体区域,设在上述第8半导体区域之上;第1导电型的第10半导体区域,设在上述第9半导体区域之上;多个第2电极,设在上述多个第3半导体区域、上述多个第4半导体区域及上述多个第7半导体区域之上,上述多个第2电极与上述多个第4半导体区域及上述多个第7半导体区域电连接;以及第3电极,隔着第1绝缘层设在上述第10半导体区域之上,上述第3电极包括位于上述第2电极彼此之间的布线部,上述第3电极与上述多个第2电极隔开间隔,上述第3电极与上述多个栅极电极电连接。
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