[发明专利]线性蒸发源及包括线性蒸发源的沉积装置有效
申请号: | 201710660922.9 | 申请日: | 2017-08-04 |
公开(公告)号: | CN107686967B | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 安秉九;吴镇浩;尹昌宣;车敏徹;姜有珍 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C22C27/04;C22C32/00 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;刘铮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
公开了线性蒸发源及包括该线性蒸发源的沉积装置,该线性蒸发源包括坩埚、加热单元和喷嘴单元,其中:坩埚配置成容纳蒸发材料;加热单元包围坩埚并且加热坩埚;喷嘴单元位于坩埚上方,该喷嘴单元包括喷嘴板和从喷嘴板突出的至少一个喷嘴。坩埚的长度是坩埚的宽度的约5倍至约30倍。坩埚包括相对于坩埚的总重量的约95.0重量百分比(wt%)至约99.99wt%的量的钼(Mo)和约0.01wt%至约5wt%的量的氧化镧(La |
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搜索关键词: | 线性 蒸发 包括 沉积 装置 | ||
【主权项】:
线性蒸发源,包括:坩埚,配置成容纳蒸发材料;加热单元,包围所述坩埚并且配置成加热所述坩埚;以及喷嘴单元,位于所述坩埚上方,所述喷嘴单元包括喷嘴板和从所述喷嘴板突出的至少一个喷嘴,其中所述坩埚的长度是所述坩埚的宽度的5倍至30倍,以及所述坩埚包括相对于所述坩埚的总重量的95.0wt%至99.99wt%的量的钼和0.01wt%至5wt%的量的氧化镧。
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