[发明专利]化学气相沉积设备

摘要

本发明公开了一种化学气相沉积设备，包括反应腔室、衬底支撑座和气体喷淋头，所述衬底支撑座用于支撑待沉积薄膜的衬底基板，所述气体喷淋头用于向所述反应腔室内输入反应气体，其中，所述衬底支撑座连接有遮蔽框架，所述遮蔽框架包括相互连接的第一连接部和第二连接部，所述衬底支撑座的边缘设置有台阶部，所述第一连接部固定连接在所述台阶部上，所述第二连接部朝向所述衬底支撑座的上方延伸，所述第二连接部围绕在所述衬底支撑座的边缘形成限定区域，所述限定区域的面积不小于所述衬底基板的面积。所述化学气相沉积设备，用于对衬底基板进行定位的遮蔽框架，完全没有覆盖衬底基板的表面，由此，衬底基板可以整面沉膜，提高衬底基板的利用率。

主权项

一种化学气相沉积设备，包括反应腔室、衬底支撑座和气体喷淋头，所述衬底支撑座用于支撑待沉积薄膜的衬底基板，所述气体喷淋头用于向所述反应腔室内输入反应气体，其特征在于，所述衬底支撑座连接有遮蔽框架，所述遮蔽框架包括相互连接的第一连接部和第二连接部，所述衬底支撑座的边缘设置有台阶部，所述第一连接部固定连接在所述台阶部上，所述第二连接部朝向所述衬底支撑座的上方延伸，所述第二连接部围绕在所述衬底支撑座的边缘形成限定区域，所述限定区域的面积不小于所述衬底基板的面积。