[发明专利]掩膜版清洁装置有效
申请号: | 201710662008.8 | 申请日: | 2017-08-04 |
公开(公告)号: | CN107272329B | 公开(公告)日: | 2020-12-25 |
发明(设计)人: | 裴龙 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰;黄进 |
地址: | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩膜版清洁装置,包括吸附筒体,所述吸附筒体的第一端设置有吸嘴,所述吸附筒体通过气管与吸气装置流体连通,其中,所述吸附筒体中设置有旋转电机和刀片,所述刀片连接在所述旋转电机的旋转轴上,所述刀片位于所述吸附筒体中且邻近于所述吸嘴。所述掩膜版清洁装置,针对粘连在掩膜版上的类毛线异物,首先通过吸附作用将类毛线异物的主体吸入到吸附筒体的吸嘴中,然后通过刀片旋转切割将类毛线异物从掩膜版上切断,最后将切断的异物吸附去除,由此可以有效地清除掩膜版上粘连的发丝、棉线、毛线和纤维等类毛线异物。 | ||
搜索关键词: | 掩膜版 清洁 装置 | ||
【主权项】:
一种掩膜版清洁装置,包括吸附筒体,所述吸附筒体的第一端设置有吸嘴,所述吸附筒体通过气管与吸气装置流体连通,其特征在于,所述吸附筒体中设置有旋转电机和刀片,所述刀片连接在所述旋转电机的旋转轴上,所述刀片位于所述吸附筒体中且邻近于所述吸嘴。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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