[发明专利]用于磁流变平面抛光的电控永磁式磁场发生装置有效

专利信息
申请号: 201710662451.5 申请日: 2017-08-04
公开(公告)号: CN107481832B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 聂蒙;李建勇;朱朋哲;曹建国;傅茂辉 申请(专利权)人: 北京交通大学
主分类号: H01F7/02 分类号: H01F7/02;B24B1/00
代理公司: 北京市商泰律师事务所 11255 代理人: 黄晓军
地址: 100044 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种用于磁流变平面抛光的电控永磁式磁场发生装置。主要包括:互相连接的电路控制部分和磁回路结构部分,所述磁回路结构部分包括:电磁线圈、磁轭及铁芯、左磁极盘、右磁极盘、永磁体和磁极气隙,所述电路控制部分的输出电流流入所述电磁线圈,所述电路控制部分控制所述输出电流的方向和大小。所述电流控制部分包括:电源、电流方向控制电路、分压调节电阻,电流方向控制电路包括单片机和继电器开关。本发明利用电路控制部分不断控制磁线圈两端所产生磁场的方向,使得装置磁路发生变化,最终使得永磁体上方气隙处产生幅值大小与频率均可调整且能够用于磁流变平面抛光的脉动磁场。
搜索关键词: 用于 流变 平面 抛光 永磁 磁场 发生 装置
【主权项】:
一种用于磁流变平面抛光的电控永磁式磁场发生装置,其特征在于,包括:互相连接的电路控制部分和磁回路结构部分,所述磁回路结构部分包括:电磁线圈、磁轭及铁芯、左磁极盘、右磁极盘、永磁体和磁极气隙,所述电路控制部分的输出电流流入所述电磁线圈,所述电路控制部分控制所述输出电流的方向和大小。
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