[发明专利]二氮杂二环辛烷衍生物的制备方法在审
申请号: | 201710665418.8 | 申请日: | 2014-09-24 |
公开(公告)号: | CN107501264A | 公开(公告)日: | 2017-12-22 |
发明(设计)人: | 阿部隆夫;古内刚;坂卷仪晃;三桥那佳子 | 申请(专利权)人: | 明治制果药业株式会社 |
主分类号: | C07D471/08 | 分类号: | C07D471/08 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司11283 | 代理人: | 刘兵,严政 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种式(IV)表示的二氮杂二环辛烷衍生物的制备方法及其中间体。(上述式中,P表示可由酸去除的NH保护基,R1表示2,5‑二氧代吡咯烷‑1‑基、1,3‑二氧代‑3a,4,7,7a‑四氢‑1H‑异吲哚‑2(3H)‑基、1,3‑二氧代六氢‑1H‑异吲哚‑2(3H)‑基或3,5‑二氧代‑4‑氮杂三环[5.2.1.02,6]癸‑8‑烯‑4‑基,R2表示氢、ClCO‑或Cl3COCO‑,R3与键合的‑O‑NH‑一起形成3‑7元杂环,OBn表示苄氧基)。 | ||
搜索关键词: | 二氮杂二环 辛烷 衍生物 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种下述式(IV)表示的化合物的制备方法,其特征在于,使下述式(I)表示的化合物与选自1‑羟基吡咯烷‑2,5‑二酮、2‑羟基‑3a,4,7,7a‑四氢‑1H‑异吲哚‑1,3(2H)‑二酮、2‑羟基六氢‑1H‑异吲哚‑1,3(2H)‑二酮或4‑羟基‑4‑氮杂三环[5.2.1.02,6]癸‑8‑烯‑3,5‑二酮的R1OH反应后,使选自光气、双光气或三光气的羰基化剂作用,形成下述式(II)表示的化合物,通过将作为保护基的P去除,进行碱处理,形成下述式(III)表示的化合物,进行与化合物:R3ONH2的反应,形成下述式(IV)表示的化合物,上述式(I)、(II)、(III)、(IV)中,OBn表示苄氧基,P表示可由酸去除的NH保护基,R1表示2,5‑二氧代吡咯烷‑1‑基、1,3‑二氧代‑3a,4,7,7a‑四氢‑1H‑异吲哚‑2(3H)‑基、1,3‑二氧代六氢‑1H‑异吲哚‑2(3H)‑基或3,5‑二氧代‑4‑氮杂三环[5.2.1.02,6]癸‑8‑烯‑4‑基,R2表示ClCO‑或Cl3COCO‑,R3与邻接的‑O‑NH‑一起形成3‑7元杂环;R3可被0至5个R4修饰,R4也可以连续地取代;在此,R4为C1‑6烷基、C1‑6烷氧基、C1‑6烷基磺酰基、杂环基、杂环基羰基、R5(R6)N‑或保护基;此外,R5和R6各自独立地表示氢或C1‑6烷基,或一起形成3‑7元杂环;进而,R3、R5及R6可在任意的位置闭环。
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