[发明专利]一种离线光刻方法及其系统有效
| 申请号： | 201710671497.3 | 申请日： | 2017-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN109388028B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/16;G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人： | 张臻贤;由元 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种离线光刻方法，包括：利用多个涂胶机分别对晶圆进行涂胶及涂胶后固化；控制装置实时检测多个光刻机是否被占用，并通过第一传送装置将涂胶后固化后的晶圆优先传送至未被占用的任一光刻机；控制装置实时检测多个显影机是否被占用，并通过第二传送装置将曝光后的晶圆优先传送至未被占用的任一显影机。本发明同时还提供一种离线光刻系统，包括：多个涂胶机、多个光刻机、多个显影机、第一传送装置、第二传送装置以及控制装置，其中，控制装置沟通连接至多个涂胶机、多个光刻机和多个显影机。本发明所提供的离线光刻方法，可使光刻设备持续不断地进行工艺流程，缩短了造价高昂的光刻设备的闲置时间，有效提高光刻生产效率和产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离线 光刻 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
1.一种离线光刻方法，其特征在于，包括：利用多个涂胶机分别对晶圆进行涂胶及涂胶后固化；检测多个光刻机是否被占用，并将涂胶后固化后的所述晶圆优先传送至未被占用的任一所述光刻机进行曝光；以及检测多个显影机是否被占用，并将曝光后的所述晶圆优先传送至未被占用的任一所述显影机进行曝光后固化及显影。
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