[发明专利]一种耐温全息烫印膜有效
| 申请号： | 201710671714.9 | 申请日： | 2017-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN107399178B | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 杨志方;牟靖文;徐晓光;黄婷 | 申请（专利权）人： | 武汉华工图像技术开发有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/42 | 分类号： | B41M5/42;B32B27/06 |
| 代理公司： | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人： | 李佑宏 |
| 地址： | 430223 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种耐温全息烫印膜，所述烫印膜包括依次层叠设置的基材层、离型层、成像层、金属反射层和背胶层，所述金属反射层各处厚度均匀，其与成像层上具有全息图像微纳米结构的表面紧密贴合，从而将所述成像层的全息图像微纳米结构拓印到金属反射层上，使之可以呈现成像层的全息图像微纳米结构，所述金属反射层和背胶层之间还设有结构保护层，该结构保护层与金属反射层紧密贴合，使得结构保护层与金属反射层的贴合面上形成恰好与成像层微纳米结构相对应的结构。本发明技术方案中的耐温全息烫印膜，通过增设结构保护层，避免了烫印膜在高温环境下出现雾化、防伪力度降低等问题；节省了模压设备成本，保证了模压成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 金属反射层 成像层 结构保护层 微纳米结构 全息烫印膜 全息图像 耐温 紧密贴合 背胶层 烫印膜 防伪力度 高温环境 厚度均匀 模压设备 依次层叠 成品率 基材层 离型层 贴合 拓印 雾化 增设 保证 | ||
【主权项】：
1.一种耐温全息烫印膜，其包括依次层叠设置的基材层、离型层、成像层、金属反射层和背胶层，其中，所述基材层作为最外侧的保护层，所述背胶层用于与标识物表面贴合，其特征在于，所述金属反射层各处厚度均匀，其与成像层上具有全息图像微纳米结构的表面紧密贴合，从而可将所述成像层的全息图像微纳米结构拓印到金属反射层上，使之可以呈现成像层的全息图像微纳米结构；所述金属反射层和背胶层之间还设有结构保护层，该结构保护层与金属反射层紧密贴合，使得结构保护层与金属反射层的贴合面上形成恰好与成像层微纳米结构相对应的结构；由此，全息图像信息被固定在成像层和结构保护层之间，从而可实现对成像层微纳米结构的固化，保护烫印膜的全息图像信息在高温下不被破坏；其中，所述结构保护层为树脂层，所述树脂层采用热塑性树脂和/或交联体系树脂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华工图像技术开发有限公司，未经武汉华工图像技术开发有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710671714.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
