[发明专利]减反射玻璃及其制备方法有效
| 申请号： | 201710674809.6 | 申请日： | 2017-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN109383083B | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 谭小安;王琦 | 申请（专利权）人： | 中国南玻集团股份有限公司;深圳南玻应用技术有限公司 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;B32B9/04;B32B17/00 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 生启 |
| 地址： | 518047 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种减反射玻璃及其制备方法。一种减反射玻璃，包括依次层叠的玻璃基板、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层及保护层；玻璃基材为钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃；第一高折射率层的材料为Si |
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| 搜索关键词： | 反射 玻璃 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种减反射玻璃，其特征在于，所述减反射玻璃包括依次层叠的玻璃基板、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层及保护层；所述玻璃基材为钠钙玻璃、硼硅玻璃或铝硅玻璃；所述第一高折射率层的材料为Si3N4，所述第一高折射率层的厚度为12nm～30nm；所述第一低折射率层的材料为SiO2，所述第一低折射率层的厚度为20nm～40nm；所述第二高折射率层的材料为Si3N4，所述第二高折射率层的厚度为50nm～150nm；所述第二低折射率层的材料为SiO2，所述第二低折射率层的厚度为50nm～100nm；及所述保护层的材料选自ZrO2、Si3N4和SiC中的至少一种。
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