[发明专利]基于黑磷的p-n光电检测器有效
申请号: | 201710675630.2 | 申请日: | 2017-08-09 |
公开(公告)号: | CN107658362B | 公开(公告)日: | 2019-05-10 |
发明(设计)人: | 刘艳;黄炎;张思清;韩根全;郝跃 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | H01L31/103 | 分类号: | H01L31/103;H01L29/16;H01L29/15 |
代理公司: | 西安文盛专利代理有限公司 61100 | 代理人: | 佘文英 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于黑磷的p‑n光电检测器,包括衬底,位于衬底上的掩埋氧化物层及位于掩埋氧化物层上的有源区结构,有源区结构包括:源极、漏极以及黑磷(BP)和聚二甲基硅氧烷(PDMS)组成的栅极。衬底是P型衬底,掩模氧化物层所用材料是SiO2材料,厚度为50nm。应用拉伸或压缩聚二甲基硅氧烷(PDMS),分别沿着锯齿形和扶手椅方向向黑磷(BP)引入不同的应变,放置在掩模氧化物层的顶部。黑磷(BP)层是五层的。源极和漏极接触,利用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)来进行电子束光刻定义。电极材料所选为Ti和Au。可给衬底施加电压调节器件。本发明设计并模拟了基于BP的p‑n光电检测器,对不同应变方向的黑磷和能量结构进行分析,考虑了暗电流效应,系统的优化了吸收系数和响应度,响应度高达66.29A/W。 | ||
搜索关键词: | 基于 黑磷 光电 检测器 | ||
【主权项】:
1.基于黑磷的p‑n光电检测器,包括硅衬底(1),位于硅衬底(1)上的掩埋氧化物层(2)及位于掩埋氧化物层(2)上的有源区结构,有源区结构包括:源极(3)、漏极(4)以及黑磷(BP)层和聚二甲基硅氧烷(PDMS)层组成的层叠结构栅极(5),其特征在于,硅衬底(1)是P型掺杂,栅极(5)中黑磷(BP)的层数为五层,分别沿着锯齿形和扶手椅方向放置在掩埋氧化物层(2)的上面,掩模氧化物层所用材料是SiO2材料,源极(3)和漏极(4)接触,利用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)来进行电子束光刻定义,电极材料所选为Ti和Au,给衬底施加电压,可以控制检测器内部电流,红外光的吸收可显著提高10%,响应度高达66.29A/W。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的