[发明专利]进气装置在审

专利信息
申请号: 201710676712.9 申请日: 2017-08-09
公开(公告)号: CN107701337A 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 伊藤笃史 申请(专利权)人: 爱信精机株式会社
主分类号: F02M35/10 分类号: F02M35/10;F02M26/17;F02M26/44
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司44202 代理人: 郝传鑫,梁婷
地址: 日本国爱知县*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种进气装置,其能够有效抑制对第3气体通路和第4气体通路分配的外部气体的流入量存在差异的情况,该第3气体通路和第4气体通路相对与第1气体通路连接的第2气体通路分支。该进气装置100具有包含多个进气管21~24的进气装置主体80、和将EGR气体分配至多个进气管21~24的分配通路31。分配通路31包含EGR气体在X2方向上流通的气体通路32、形成为在气体通路32的下游相对气体通路32弯曲并且EGR气体在A1方向上流通的气体通路33、相对气体通路33向X2方向侧分支的气体通路35、和相对气体通路33向X1方向侧分支的气体通路34。气体通路33与气体通路35所成的角θ2小于气体通路33与气体通路34所成的角θ3。
搜索关键词: 装置
【主权项】:
一种进气装置,其具有:进气装置主体,所述进气装置主体含有与多气缸发动机的各个气缸分别对应设置的多个进气管;和分配通路,所述分配通路将外部气体分配至所述多个进气管,所述分配通路包含:分支前气体通路,所述分支前气体通路具有第1气体通路和第2气体通路,在所述第1气体通路中所述外部气体在第1气体流通方向上流通,所述第2气体通路形成为在所述第1气体通路的下游相对所述第1气体通路弯曲,并且在所述第2气体通路中所述外部气体在第2气体流通方向上流通;和分支后气体通路,所述分支后气体通路具有第3气体通路和第4气体通路,所述第3气体通路相对所述第2气体通路向所述第1气体流通方向侧分支,所述第4气体通路相对所述第2气体通路向所述第1气体流通方向的相反方向侧分支,所述第2气体通路与所述第3气体通路所成的角小于所述第2气体通路与所述第4气体通路所成的角。
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