[发明专利]形貌检测装置与形貌检测方法

摘要

本发明提供了一种形貌检测装置与形貌检测方法，形貌检测装置包括发源发生器、数字微镜器件、探测器及工控机，所述光源发生器包括三维测量光源发生器和光谱测量光源发生器，所述光源发生器形成的光束通过分光镜形成探测光和参考光，所述数字微镜器件反射所述参考光形成基准光，所述探测光照射到所述待测面反射形成物面光，所述物面光与所述基准光通过所述分光镜到所述探测器。本发明提供的形貌检测装置与形貌检测方法中，形貌检测装置形成探测光和参考光可实现切换测量状态，探测器检测物面光与基准光，探测器通过两种不同的光源发生器可得到待测面的反射波前相位分布和反射率光谱分布，能对复杂薄膜材料反射光谱、三维轮廓进行同步检测和补偿。

主权项

1.一种形貌检测装置，其特征在于，所述形貌检测装置包括：光源发生器、数字微镜器件、探测器及工控机，其中，所述光源发生器包括三维测量光源发生器和光谱测量光源发生器；所述光源发生器形成的光束通过分光镜形成探测光和参考光，所述探测光包括所述三维测量光源发生器形成的三维探测光和所述光谱测量光源发生器形成的光谱探测光，所述参考光包括所述三维测量光源发生器形成的三维参考光和所述光谱测量光源发生器形成的光谱参考光；所述参考光照射到所述数字微镜器件，所述数字微镜器件反射所述参考光形成基准光，所述基准光包括所述三维参考光形成的第一基准光和所述光谱参考光形成的第二基准光；所述探测光照射到样品的待测面，被反射形成物面光，所述物面光与所述基准光通过所述分光镜会合到所述探测器，所述物面光包括所述三维探测光形成的第一物面光和所述光谱探测光形成的第二物面光；所述探测器探测所述第一基准光与所述第一物面光干涉形成的三维测量干涉条纹，所述工控机根据所述三维测量干涉条纹计算得到所述待测面的反射波前相位分布，所述探测器探测所述第二基准光与所述第二物面光干涉形成的光谱测量干涉条纹，所述工控机根据所述光谱测量干涉条纹计算所述待测面的反射率光谱分布，之后所述工控机结合所述待测面的反射波前相位分布和所述待测面的反射率光谱分布，解析出所述待测面的形貌分布。