[发明专利]一种钕锶钴薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种钕锶钴薄膜的制备方法，本发明有效解决了氧化物透明导电薄膜与柔性聚酯基底匹配性不好，附着性差，容易发生脱落的关键性问题，本发明采用以醋酸钕、醋酸锶和醋酸钴这类简单的有机盐为原材料，大大降低了原材料的成本，而且整个工艺过程可在大气环境中操作，且无毒性。

主权项

一种钕锶钴薄膜的制备方法，该方法包括如下步骤：（1）对聚酯基底进行等离子体表面处理将柔性聚酯基底放入含有一定洗洁剂的去离子水中，在去离子水中超声10‑15min；然后，用柔软干净的毛刷逐一对柔性聚酯基底的正反面进行洗刷以去除基底表面的污垢和油污，之后，用去离子水反复冲洗基底，直至基底无泡沫为止；接着，将柔性聚酯放入乙醇中超声10‑15min，以去除基底表面的有机物，之后，用去离子水反复冲洗基底4‑6次；接着，将柔性聚酯基底进行去离子水超声25‑30mins，然后，将容器中超声后的去离子水倒出，加入新的去离子水；最后，将洁净的柔性聚酯从去离子水中逐一取出平铺在洁净的大号培养皿上，一起放进温度为55‑60℃的洁净烘箱内进行烘烤24‑30h；将清洗、干燥后的柔性聚酯基底放入磁控溅射机的腔体内，关闭磁控溅射机的所有阀门、窗口、所有靶材正下方的溅射挡板，对腔体进行抽真空，至3×10‑4‑5×10‑4pa；将反溅射挡板旋转至柔性聚酯基底的正上方，通入氩气和氧气，调节聚酯基底与反溅射挡板的间距，设定相应的氩氧比例、总体气体流量、工作气压、溅射功率和等离子体处理时间，对柔性聚酯基底表面进行反溅射等离子体处理；（2）制备导电溶胶溶剂为醋酸、去离子水，稳定剂为乙酰丙酮，它们的体积比为25‑30∶6‑8∶3‑5，溶质为醋酸钕、醋酸锶、醋酸钴，它们的摩尔比为1∶1∶2，以0.3‑0.5M浓度溶于溶液中；按上述的配制比，先将溶剂醋酸、水，溶质醋酸钕、醋酸锶、醋酸钴混合，加热至75‑85℃使溶质完全溶解；再将乙酰丙酮加入上述的混合溶液中混合，加热至110‑115℃，时间115‑125min，使溶液充分回流，然后将溶液的浓度调节为0.3‑0.5M，即制成了稳定的导电溶胶；（3）将导电溶胶，使用旋涂法在上述经等离子表面处理后的聚酯基底上制备氧化锌凝胶薄膜，将得到氧化锌凝胶薄膜在空气中，100‑105℃条件下干燥10‑20min；接着在空气中，450‑500℃条件下热处理10‑20min，得到氧化锌薄膜。