[发明专利]界面纳米光栅结构绿光扩散膜的制备方法在审
申请号: | 201710689269.9 | 申请日: | 2017-08-11 |
公开(公告)号: | CN107272093A | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 蓝碧健 | 申请(专利权)人: | 太仓碧奇新材料研发有限公司 |
主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 215400 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明属于薄膜材料领域,涉及一种界面纳米光栅结构绿光扩散膜的制备方法。本发明提出的制备方法是利用纳米光栅结构模板,在聚对苯二甲酸乙二酯基板表面构筑硅烷偶联剂图形,加热,紫外光照射,得聚酯/聚硅氧烷复合膜,再在聚硅氧烷层上旋涂聚甲基丙烯酸甲酯层,高温退火,得界面纳米光栅结构绿光扩散膜。本发明制备的界面纳米光栅结构绿光扩散膜只对绿光有高的光透过率及雾度,同时提高绿光的色纯度,但对其它颜色的光,如白光、蓝光、红光等,不仅光透过率及雾度较低,而且不能提高相关颜色光的色纯度,即本发明制备的光扩散膜对绿光具有选择性。 | ||
搜索关键词: | 界面 纳米 光栅 结构 扩散 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种界面纳米光栅结构绿光扩散膜的制备方法,其特征在于具体步骤如下:(1)聚酯/聚硅氧烷复合膜制备;室温下,将1ml硅烷偶联剂溶液滴加在面积为9cm2、厚度为0.2mm、绿光透过率为95%的聚对苯二甲酸乙二酯基板上,旋涂硅烷偶联剂层;将线宽、间距均为100nm的压印用纳米光栅结构模板放置在硅烷偶联剂层上,用压印的方法构建纳米光栅结构图形,再放置在烘箱中,于100℃加热2小时,冷却至室温,分离模板,得图形化聚酯复合膜;再将图形化聚酯复合膜放入紫外箱中,用365nm波长紫外光照射10分钟,取出,得聚酯/聚硅氧烷复合膜;其中硅烷偶联剂溶液中各组分的质量比为丙酮∶3‑氨基丙基三甲氧基硅烷∶3‑巯基丙基三甲氧基硅烷=100∶1∶0.5;(2)界面纳米光栅结构绿光扩散膜制备;将聚甲基丙烯酸甲酯溶液滴加在聚酯/聚硅氧烷复合膜图形化层上,旋涂成500nm厚的聚甲基丙烯酸甲酯层,放置在烘箱中,于100℃加热2小时,冷却至室温,得界面纳米光栅结构绿光扩散膜;其中聚甲基丙烯酸甲酯溶液中各组分的质量比为氯仿∶聚甲基丙烯酸甲酯∶过氧化二苯甲酰=100∶10∶0.2,聚甲基丙烯酸甲酯的重均分子量为10000;用透过率测试仪检测界面纳米光栅结构绿光扩散膜的绿光、红光、蓝光、白光透过率;用雾度计检测界面纳米光栅结构绿光扩散膜的绿光、红光、蓝光、白光雾度;将色纯度为0.80的绿光、红光、蓝光、白光经界面纳米光栅结构绿光扩散膜透射,用色彩照度测试仪测得透射光的色纯度。
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