[发明专利]一种电池片湿法刻蚀液有效
| 申请号： | 201710689643.5 | 申请日： | 2017-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN107452615B | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 徐峰;谭飞;章伟冠;许维国;郑以路 | 申请（专利权）人： | 通威太阳能（安徽）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/311 | 分类号： | H01L21/311 |
| 代理公司： | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人： | 张玺 |
| 地址： | 230088 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电池片湿法刻蚀液，该刻蚀液由如下重量比的成份组成：2‑5％硝酸，5‑8％冰醋酸，60‑65％磷酸，15‑20％BOE溶液和余量水，所述的BOE溶液是由25‑35份HF、20‑23份NH4F和余量水混合而成，且HF的浓度为45％，本发明的刻蚀液具有刻蚀速度快，刻蚀形貌均匀，平滑的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电池 湿法 刻蚀 | ||
【主权项】：
1.一种电池片湿法刻蚀液，其特征在于：该刻蚀液由如下重量比的成份组成：2‑5％硝酸，5‑8％冰醋酸，60‑65％磷酸，15‑20％BOE溶液和余量水，其中，BOE溶液是由25‑35份HF、20‑23份NH4F和余量水配制而成；所述硝酸的浓度是30％，磷酸浓度是25％，HF的浓度是45％；所述刻蚀液的使用温度为20‑25℃。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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