[发明专利]一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层结构及方法在审

专利信息
申请号: 201710692390.7 申请日: 2017-08-14
公开(公告)号: CN107313468A 公开(公告)日: 2017-11-03
发明(设计)人: 陈天镭;王兆辉;丁东彦;牛梦实;柴清;蔡明喜;李东;王万翠 申请(专利权)人: 兰州有色冶金设计研究院有限公司
主分类号: E02D31/04 分类号: E02D31/04
代理公司: 甘肃省知识产权事务中心62100 代理人: 张克勤
地址: 730000 *** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层结构及方法,属于地基处理领域,以解决大厚度湿陷性黄土地基土质结构疏松、空隙发育,遇水后强度迅速下降的问题。一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层结构,在建筑物基础下设水平隔渗层,在水平隔渗层上方的建筑物基础的周围设有垂直防渗帷幕,在水平隔渗层下方的湿陷性黄土的周围设有下帷幕。本发明成本低廉、施工速度快,帷幕回填土均为素土(灰土),具有良好的环境效益。
搜索关键词: 一种 解除 湿陷性 黄土 地基 防渗 帷幕 水平 隔渗层 结构 方法
【主权项】:
一种解除湿陷性黄土地基湿陷性的防渗帷幕与水平隔渗层结构,其特征在于:在建筑物基础(5)下设水平隔渗层(10),在水平隔渗层(10)上方的建筑物基础(5)的周围设有垂直防渗帷幕(3),在水平隔渗层(10)下方的湿陷性黄土(2)的周围设有下帷幕。
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