[发明专利]一种阵列基板的制备方法、阵列基板及显示器件有效
| 申请号： | 201710693135.4 | 申请日： | 2017-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN107329312B | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | 张俊瑞;向西;左雄灿 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种阵列基板的制备方法，阵列基板和显示器件，所述阵列基板用于显示面板，包括：基板以及形成在所述基板上的半透半反层，所述半透半反层靠近所述显示面板的液晶层设置；通过设置半透半反层使显示面板既可以显示指定内容，又可以根据需要作为反光镜使用；由于半透半反层内置在阵列基板上，可以利用显示面板中的液晶偏转来调制反射光线的强度，实现自动防眩，不再需要在显示器件上贴合自动防眩器件，从而极大的减小了镜式显示设备的厚度和重量，并且降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 制备 方法 显示 器件 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，用于显示面板，其特征在于，包括：基板以及形成在所述基板上的半透半反层，所述半透半反层靠近所述显示面板的液晶层设置；在显示状态下，所述半透半反层将来自所述基板方向的入射光透射至所述液晶层；在反光状态下，所述半透半反层将来自所述液晶层方向的入射光反射至所述液晶层；经所述显示面板出射的反射光强度随所述液晶层的液晶偏转变化。
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