[发明专利]对称等离子体处理室

摘要

本发明提供一种对称等离子体处理室。本发明实施例提供允许极其对称的电、热和气体传导通过室的室设计。通过提供这种对称，形成在室内的等离子体自然地在设置在室的处理区域中的衬底的表面上具有改进的均匀性。这种改进的对称性以及其他室的附加情况(诸如提供操纵上下电极之间以及在气体入口和被处理的衬底之间的间隙的能力)相较于传统的系统允许对等离子体处理和均匀性更好的控制。

主权项

一种等离子体处理设备，包括：盖组件和室体，所述盖组件和所述室体围成处理区域；排气组件，所述排气组件在所述室体内限定抽真空区域；中心支撑构件，所述中心支撑构件在所述盖组件下方耦合至所述室体；衬底支撑组件，所述衬底支撑组件设置在所述处理区域与所述抽真空区域之间且能移动地耦合至所述中心支撑构件，所述衬底支撑组件包括下电极和支撑基座，所述下电极密封至所述中心支撑构件，以便围成中心区域并将所述中心区域从所述处理区域和所述抽真空区域隔离；多个抽真空通道，所述多个抽真空通道围绕所述衬底支撑组件对称地设置，并且将所述处理区域与所述抽真空区域流体地耦合；多个进出管，所述多个进出管贯穿所述室体且在所述中心支撑构件下方定位以提供对所述中心区域的进出。