[发明专利]一种真空镀膜掺杂靶材及其制作方法及真空镀膜方法在审
申请号: | 201710703588.0 | 申请日: | 2017-08-16 |
公开(公告)号: | CN107299326A | 公开(公告)日: | 2017-10-27 |
发明(设计)人: | 陈立;吴德生;朱得菊 | 申请(专利权)人: | 信利光电股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 516600 广东省汕尾*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种真空镀膜掺杂靶材及其制作方法及真空镀膜方法,该制作方法包括根据预设的靶材尺寸、掺杂元素的种类以及掺杂元素的掺杂含量,设计节块的形状;选择所需掺杂元素的板状材料,根据所述形状的尺寸对板状材料进行切割以及打磨,形成所需掺杂元素的节块;根据均匀分布的原则,在靶材绑定基板上按照预设的分布方式设置不同掺杂元素对应节块;将节块与靶材绑定基板进行绑定,形成真空镀膜掺杂靶材;所述靶材绑定基板上绑定有多个所述节块,所述节块在第一方向上依次堆叠设置,所述第一方向平行于所述绑定基板;对所述真空镀膜掺杂靶材进行质量检测。本发明技术方案可以方便快捷地根据掺杂元素的种类以及含量的不同进行掺杂靶材的制作。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 掺杂 及其 制作方法 方法 | ||
【主权项】:
一种真空镀膜掺杂靶材的制作方法,所述真空镀膜掺杂靶材至少包括两种不同的掺杂元素,其特征在于,所述制作方法包括:根据预设的靶材尺寸、掺杂元素的种类以及掺杂元素的掺杂含量,设计节块的形状;选择所需掺杂元素的板状材料,根据所述形状的尺寸对所述板状材料进行切割以及打磨,形成所需掺杂元素的节块;根据均匀分布的原则,在靶材绑定基板上按照预设的分布方式设置不同掺杂元素对应节块;将所述节块与所述靶材绑定基板进行绑定,形成所述真空镀膜掺杂靶材;所述靶材绑定基板上绑定有多个所述节块,所述节块在第一方向上依次堆叠设置,所述第一方向平行于所述绑定基板;对所述真空镀膜掺杂靶材进行质量检测。
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