[发明专利]一种中心遮拦的光学成像系统背景辐射抑制方法有效

专利信息
申请号: 201710705800.7 申请日: 2017-08-17
公开(公告)号: CN109407309B 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: 甄政;王英瑞;李昂;周军;欧文 申请(专利权)人: 北京遥感设备研究所
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G06F30/20
代理公司: 中国航天科工集团公司专利中心 11024 代理人: 姜中英
地址: 100854*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种中心遮拦的光学成像系统背景辐射抑制方法,其具体步骤为:构建包括:光线追迹模块、光线窗口分布模块、探测器窗口遮挡模块和背景辐射分析模块的光学成像系统背景辐射抑制仿真系统;光线追迹模块完成不同视场下的目标光线追迹;光线窗口分布模块计算目标光线在探测器窗口分布;探测器窗口遮挡模块计算探测器需要遮挡的区域范围;背景辐射分析模块计算对探测器窗口遮挡前后背景辐射抑制比例;至此实现了中心遮拦的光学成像系统背景杂散辐射的降低。本方法有效地解决由于成像系统的背景杂散辐射过高造成探测积分时间变短的问题,有利于提高系统探测灵敏度。
搜索关键词: 一种 中心 遮拦 光学 成像 系统 背景 辐射 抑制 方法
【主权项】:
1.一种中心遮拦的光学成像系统背景辐射抑制方法,其特征在于具体步骤为:构建包括:光线追迹模块、光线窗口分布模块、探测器窗口遮挡模块和背景辐射分析模块的光学成像系统背景辐射抑制仿真系统;光线追迹模块完成不同视场下的目标光线追迹;光线窗口分布模块计算目标光线在探测器窗口分布;探测器窗口遮挡模块计算探测器需要遮挡的区域范围;背景辐射分析模块计算对探测器窗口遮挡前后背景辐射抑制比例;至此实现了中心遮拦的光学成像系统背景杂散辐射的降低。
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