[发明专利]聚偏二氟乙烯薄膜、其形成方法及纯化盐水的方法在审
| 申请号： | 201710707245.1 | 申请日： | 2017-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN108570155A | 公开（公告）日： | 2018-09-25 |
| 发明（设计）人： | 李佳玲;黄立德;童国伦 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L27/16;C08K9/02;C08K7/24;D01D1/02;D04H3/007;D01D5/24;B01D71/34;B01D67/00;C02F1/44 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种聚偏二氟乙烯薄膜，包括熔融粘度介于35至60千泊(k poise)的聚偏二氟乙烯，且所述聚偏二氟乙烯薄膜表面的孔洞尺寸介于0.1微米至5微米之间。本发明还提供一种上述聚偏二氟乙烯薄膜的形成方法。本发明还提供一种利用上述聚偏二氟乙烯薄膜的纯化盐水的方法。本发明的聚偏二氟乙烯薄膜不仅内外表面皆有高表面开孔率，使其具备高通量、阻盐率佳的优点，且制程简单、不需使用大量溶剂为凝聚槽、及成本低，具应用上的优势。 | ||
| 搜索关键词： | 聚偏二氟乙烯薄膜 盐水 孔洞 聚偏二氟乙烯 内外表面 熔融粘度 高表面 高通量 开孔率 凝聚槽 溶剂 盐率 制程 应用 | ||
【主权项】：
1.一种聚偏二氟乙烯薄膜，包括熔融粘度介于35至60千泊之间的聚偏二氟乙烯，且该聚偏二氟乙烯薄膜的表面孔洞尺寸介于0.1微米至5微米之间。
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