[发明专利]蚀刻设备

摘要

本发明提供一种蚀刻设备，包括蚀刻腔室，以及收容所述蚀刻腔室的可旋转的承载平台、与承载平台的表面平行的上电极板、下电极板及两个遮挡板；下电极板设于所述承载平台上，上电极板设于所述蚀刻腔室顶部，两个遮挡板设于所述上电极板与下电极板之间且所述遮挡板相对承载平台移动，两个遮挡板以所述承载平台的轴线对称设置，每一遮挡板在承载平台的表面的正投影由承载平台的轴心沿着承载平台的旋转轨迹的半径延伸，遮挡板正投影的长度与所述半径长度相等，所述基板由轴心向外包括中心区和边缘区，通过改变所述遮挡板垂直于所述半径方向的宽度或者/和承载平台旋转的旋转角速度以使位于基板的中心区和边缘区被蚀刻深度相同。

主权项

1.一种蚀刻设备，用于蚀刻一基板，其特征在于，包括蚀刻腔室，以及收容于所述蚀刻腔室的可旋转的承载平台、与所述承载平台的表面平行的上电极板、下电极板及两个遮挡板；所述下电极板设于所述承载平台上，所述上电极板设于所述蚀刻腔室顶部位于下电极板正上方，所述两个遮挡板设于所述上电极板与下电极板之间且所述遮挡板相对所述承载平台移动，/n所述两个遮挡板与所述承载平台的表面平行相对，并且以所述承载平台的轴线对称设置，每一所述遮挡板在所述承载平台的表面的正投影由所述承载平台的轴心沿着承载平台的旋转轨迹的半径延伸，所述遮挡板正投影的长度与所述半径长度相等，所述两个遮挡板的正投影位于同一条直径所在直线上；/n所述基板放置于所述承载平台上，所述基板由轴心向外包括中心区和边缘区，通过改变所述遮挡板垂直于所述半径方向的宽度以使位于所述基板的中心区和边缘区被蚀刻深度相同。/n