[发明专利]一种原子层沉积薄膜原位监测控制系统在审
| 申请号： | 201710710946.0 | 申请日： | 2017-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN107478175A | 公开（公告）日： | 2017-12-15 |
| 发明（设计）人： | 刘磊;杨俊杰;黄亚洲;吕俊;陈云飞;倪中华 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24;G01B7/06 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 | 代理人： | 吴飞 |
| 地址： | 211189 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种原子层沉积薄膜原位监测控制系统，其包括原子层沉积设备、分别用于实时监测原子层沉积薄膜的表面轮廓和薄膜沉积厚度的白光干涉三维轮廓检测装置及石英晶体微天平、以及控制模块，该控制模块与原子层沉积设备、白光干涉三维轮廓检测装置、石英晶体微天平分别连接，用于接收、观测、分析实时的薄膜表面轮廓信息和薄膜厚度信息、并根据该信息控制原子层沉积过程。该监测控制系统通过对薄膜沉积过程进行原位监测，不仅可实时在线监控涂层厚度和薄膜表面三维轮廓，还能及时显示薄膜涂层厚度的动态变化过程和薄膜表面的三维形貌轮廓图像等信息，从而帮助提高薄膜涂层沉积的精度，改善薄膜产品的质量，使得薄膜涂层的性能更加优越。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 原子 沉积 薄膜 原位 监测 控制系统 | ||
【主权项】：
一种原子层沉积薄膜原位监测控制系统，其特征在于，包括原子层沉积设备、分别用于实时监测原子层沉积薄膜的表面轮廓和薄膜沉积厚度的白光干涉三维轮廓检测装置及石英晶体微天平、以及控制模块，该控制模块与原子层沉积设备、白光干涉三维轮廓检测装置、石英晶体微天平分别连接，用于接收、观测、分析实时的薄膜表面轮廓信息和薄膜厚度信息、并根据该信息控制原子层沉积过程。
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