[发明专利]彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201710712249.9 申请日: 2017-08-18
公开(公告)号: CN107402469B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 李大海 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G09F9/30
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 黄灿;张博
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置,属于显示技术领域。彩膜基板的制作方法,包括在衬底基板上形成条状的第一黑矩阵图形,所述第一黑矩阵图形限定出在第一方向上交替排布的第一像素区域和第二像素区域,所述第一方向与所述第一黑矩阵图形的延伸方向垂直,所述第一像素区域在第一方向上的第一宽度大于所述第二像素区域在第一方向上的第二宽度,所述制作方法还包括:采用喷墨打印工艺在第一像素区域内制作色阻层或透光层;采用曝光显影工艺在第二像素区域内制作色阻层或透光层。本发明能够降低喷墨打印法应用于色阻层制备时的精度要求,并能避免亚像素之间形成段差以及角段差对显示带来的不良影响。
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制作方法 显示 面板 显示装置
【主权项】:
一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括在衬底基板上形成条状的第一黑矩阵图形,所述第一黑矩阵图形限定出在第一方向上交替排布的第一像素区域和第二像素区域,所述第一方向与所述第一黑矩阵图形的延伸方向垂直,所述第一像素区域在第一方向上的第一宽度大于所述第二像素区域在第一方向上的第二宽度,所述制作方法还包括:采用喷墨打印工艺在第一像素区域内制作色阻层或透光层;采用曝光显影工艺在第二像素区域内制作色阻层或透光层。
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