[发明专利]硅烷处理剂和制备硅烷处理剂的方法有效
申请号: | 201710716476.9 | 申请日: | 2017-08-21 |
公开(公告)号: | CN107460465B | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 翁叶炯;文丰正 | 申请(专利权)人: | 佛山市顺德区美硕金属表面技术有限公司 |
主分类号: | C23C22/05 | 分类号: | C23C22/05 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 李双艳 |
地址: | 528000 广东省佛山市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种硅烷处理剂和制备硅烷处理剂的方法,该硅烷处理剂中,每1000重量份的所述硅烷处理剂包含以下组分:硅烷偶联剂30‑65份;水解稳定剂10‑30份;表面润湿剂1‑20份;封闭剂0.5‑8份;附着力促进剂1‑20份;水,余量;其中,所述硅烷偶联剂为氨丙基三甲氧基硅烷和/或氨丙基三乙氧基硅烷。本发明的硅烷处理剂的操作工艺简单,并且可获得良好的陶化效果,经本发明的硅烷处理剂处理的金属件防腐蚀性能优异,完全可以替代传统的磷酸盐转化和铬酸盐钝化表面处理技术。 | ||
搜索关键词: | 硅烷 处理 制备 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
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