[发明专利]自适应对位方法有效

专利信息
申请号: 201710720174.9 申请日: 2017-08-21
公开(公告)号: CN107437592B 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: 徐湘伦;邹新 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L21/68
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种自适应对位方法,对CCD图像传感器获得的基板对位标所在区域的图像、及掩膜板对位标所在区域的图像进行预处理后识别对位标,再分别对识别到的基板对位标、掩膜板对位标进行尺寸变换处理与灰度归一化处理,使各基板对位标的尺寸统一、中心不变、边缘清晰,各掩膜板对位标的尺寸统一、中心不变、边缘清晰,然后计算相应的基板对位标与掩膜板对位标的中心位置偏差,最后对位机构根据所述中心位置偏差进行移动,使所述基板对位标与掩膜板对位标对位、重合,实现相应的基板和掩膜板的位置匹配,既能够有效提高对位精度,又能够提升对位机构对基板与掩膜板的兼容性,降低对对位标的制作要求,减少对位故障,改善设备稼动率。
搜索关键词: 自适应 对位 方法
【主权项】:
1.一种自适应对位方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤S1、提供多个基板(1)、及多个掩膜板(2),使用CCD图像传感器获取基板对位标(11)所在区域的图像、及掩膜板对位标(21)所在区域的图像;步骤S2、对CCD图像传感器获得的基板对位标(11)所在区域的图像、及掩膜板对位标(21)所在区域的图像进行预处理;步骤S3、分别对预处理后的基板对位标(11)所在区域的图像、掩膜板对位标(21)所在区域的图像进行对位标识别;步骤S4、分别对识别到的基板对位标(11)、掩膜板对位标(21)进行尺寸变换处理与灰度归一化处理;步骤S5、选取一完成基板对位标(11)尺寸变换处理与灰度归一化处理的基板(1)及一完成掩膜板对位标(21)尺寸变换处理与灰度归一化处理的掩膜板(2),计算相应的基板对位标(11)与掩膜板对位标(21)的中心位置偏差(ΔX,ΔY);步骤S6、对位机构根据步骤S5计算得到的基板对位标(11)与掩膜板对位标(21)的中心位置偏差(ΔX,ΔY)进行移动,使所述基板对位标(11)与掩膜板对位标(21)对位、重合,实现相应的基板(1)和掩膜板(2)的位置匹配;所述步骤S2对CCD图像传感器获得的基板对位标(11)所在区域的图像、及掩膜板对位标(21)所在区域的图像进行预处理包括光照补偿处理;所述步骤S2对CCD图像传感器获得的基板对位标(11)所在区域的图像、及掩膜板对位标(21)所在区域的图像进行预处理还包括去噪处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710720174.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top