[发明专利]自适应对位方法有效
申请号: | 201710720174.9 | 申请日: | 2017-08-21 |
公开(公告)号: | CN107437592B | 公开(公告)日: | 2019-04-30 |
发明(设计)人: | 徐湘伦;邹新 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L21/68 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种自适应对位方法,对CCD图像传感器获得的基板对位标所在区域的图像、及掩膜板对位标所在区域的图像进行预处理后识别对位标,再分别对识别到的基板对位标、掩膜板对位标进行尺寸变换处理与灰度归一化处理,使各基板对位标的尺寸统一、中心不变、边缘清晰,各掩膜板对位标的尺寸统一、中心不变、边缘清晰,然后计算相应的基板对位标与掩膜板对位标的中心位置偏差,最后对位机构根据所述中心位置偏差进行移动,使所述基板对位标与掩膜板对位标对位、重合,实现相应的基板和掩膜板的位置匹配,既能够有效提高对位精度,又能够提升对位机构对基板与掩膜板的兼容性,降低对对位标的制作要求,减少对位故障,改善设备稼动率。 | ||
搜索关键词: | 自适应 对位 方法 | ||
【主权项】:
1.一种自适应对位方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤S1、提供多个基板(1)、及多个掩膜板(2),使用CCD图像传感器获取基板对位标(11)所在区域的图像、及掩膜板对位标(21)所在区域的图像;步骤S2、对CCD图像传感器获得的基板对位标(11)所在区域的图像、及掩膜板对位标(21)所在区域的图像进行预处理;步骤S3、分别对预处理后的基板对位标(11)所在区域的图像、掩膜板对位标(21)所在区域的图像进行对位标识别;步骤S4、分别对识别到的基板对位标(11)、掩膜板对位标(21)进行尺寸变换处理与灰度归一化处理;步骤S5、选取一完成基板对位标(11)尺寸变换处理与灰度归一化处理的基板(1)及一完成掩膜板对位标(21)尺寸变换处理与灰度归一化处理的掩膜板(2),计算相应的基板对位标(11)与掩膜板对位标(21)的中心位置偏差(ΔX,ΔY);步骤S6、对位机构根据步骤S5计算得到的基板对位标(11)与掩膜板对位标(21)的中心位置偏差(ΔX,ΔY)进行移动,使所述基板对位标(11)与掩膜板对位标(21)对位、重合,实现相应的基板(1)和掩膜板(2)的位置匹配;所述步骤S2对CCD图像传感器获得的基板对位标(11)所在区域的图像、及掩膜板对位标(21)所在区域的图像进行预处理包括光照补偿处理;所述步骤S2对CCD图像传感器获得的基板对位标(11)所在区域的图像、及掩膜板对位标(21)所在区域的图像进行预处理还包括去噪处理。
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