[发明专利]触控结构的制备方法、触控结构有效
| 申请号： | 201710725537.8 | 申请日： | 2017-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN109426397B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 王静;许邹明;谢晓冬;张雷;丁贤林;郑启涛;郭总杰;李冬;陈启程;曾亭;张明;李性照;吴玲艳;张贵玉 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种触控结构及其制备方法，该方法包括：在基底上形成第一导电层；在所述第一导电层上形成第二导电层；对所述第一导电层和所述第二导电层构图以分别形成第一导电层图案和第二导电层图案；其中，在所述第二导电层图案形成之后形成所述第一导电层图案，且所述第一导电层图案和所述第二导电层图案彼此不同。该方法通过在第二导电层图案形成之后再形成第一导电层图案，可以使第二导电层图案与第一导电层图案的对位操作更加方便、更加准确。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种触控结构的制备方法，包括：在基底上形成第一导电层；在所述第一导电层上形成第二导电层；对所述第一导电层和所述第二导电层构图以分别形成第一导电层图案和第二导电层图案；其中，在所述第二导电层图案形成之后形成所述第一导电层图案，且所述第一导电层图案和所述第二导电层图案彼此不同。
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