[发明专利]照明系统、曝光装置及制造、图像形成、照明与曝光方法有效
| 申请号： | 201710727062.6 | 申请日： | 2012-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN107390477B | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 田中裕久;大木裕史;中岛伸一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本东京千代*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种照明光学系统、曝光装置及组件制造、图像形成、照明与曝光方法，能够形成具有所需的光束剖面的光瞳强度分布。利用来自光源的光对被照射面进行照明的照明光学系统包括：空间光调变器，包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件，将光强度分布可变化地形成于照明光学系统的照明光瞳；发散角赋予构件，配置于包含与规定面成光学共轭的面的共轭空间内，对入射光束赋予发散角而射出；以及偏光构件，配置于规定面的附近位置或共轭空间，使经由光路传播的传播光束中的一部分光束的偏光状态发生变化。 | ||
| 搜索关键词： | 照明 系统 曝光 装置 制造 图像 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种照明光学系统，利用来自光源的光对被照射面进行照明，其特征在于包括：/n空间光调变器，包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件，将光强度分布可变化地形成于所述照明光学系统的照明光瞳；/n发散角赋予构件，配置于包含与所述规定面成光学共轭的面的共轭空间内，对入射光束赋予发散角而射出；以及/n偏光构件，配置于包含所述规定面的规定空间或所述共轭空间内，且相对于所述照明光学系统的照明光路的一部分光路而设置，使得经由所述照明光路传播的传播光束中对应于所述一部分光路的一部分光束的偏光状态发生变化。/n
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