[发明专利]一种中长波红外波段II类超晶格有效

专利信息
申请号: 201710727465.0 申请日: 2017-08-23
公开(公告)号: CN107507877B 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 陈意桥;陈超 申请(专利权)人: 苏州焜原光电有限公司
主分类号: H01L31/0304 分类号: H01L31/0304;H01L31/0352;H01L33/06;H01L33/12;H01L33/14;H01L33/30;H01S5/34;H01S5/343
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明一种中长波红外波段II类超晶格,包括多个超晶格原胞重复堆叠而成,超晶格原胞包括GaSb层、第一InSb层、第一InAs层、InxGa1‑xAs层、第二InAs层、第二InSb层,InxGa1‑xAs层位于第一InAs层与第二InAs层之间、或位于并紧贴第一InAs层的上方、或位于并紧贴第二InAs层下方。本发明的超晶格结构引入了较厚的InSb层以有效地拓展截止波长、提高量子效率,并增加了InxGa1‑xAs插入层来平衡应力、减小器件暗电流,适用于制备中红外、远红外波段的光电器件。
搜索关键词: 一种 长波 红外 波段 ii 晶格
【主权项】:
1.一种中长波红外波段II类超晶格,其特征在于:包括多个超晶格原胞重复堆叠而成,所述超晶格原胞包括自下而上依次设置的GaSb层、第一InSb层、第一InAs层、第二InAs层和第二InSb层,所述超晶格原胞还包括InxGa1‑xAs层,所述InxGa1‑xAs层位于所述第一InAs层与所述第二InAs层之间、或位于并紧贴所述第一InAs层的上方、或所述第二InAs层下方。
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