[发明专利]柱状弧源和电弧离子镀膜装置在审
| 申请号： | 201710732471.5 | 申请日： | 2017-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN107723669A | 公开（公告）日： | 2018-02-23 |
| 发明（设计）人： | 高文波;刘潺;夏志钢 | 申请（专利权）人： | 深圳市生波尔光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所44287 | 代理人： | 胡海国,赵爱蓉 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市坪*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种柱状弧源，用于电弧离子镀膜装置，该电弧离子镀膜装置包括罩设于所述柱状弧源的屏蔽罩，所述柱状弧源包括磁芯和套设于所述磁芯的靶管，所述磁芯包括磁极管和设于所述磁极管的一磁铁，所述柱状弧源还包括连接于所述靶管的传动机构，所述传动机构驱动所述靶管转动。本发明还公开一种应用该柱状弧源的电弧离子镀膜装置。本发明柱状弧源能有效提高采用该柱状弧源的电弧离子镀膜装置的镀膜效率。 | ||
| 搜索关键词： | 柱状 电弧 离子 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种柱状弧源，用于电弧离子镀膜装置，该电弧离子镀膜装置包括罩设于所述柱状弧源的屏蔽罩，所述柱状弧源包括磁芯和套设于所述磁芯的靶管，所述磁芯包括磁极管和设于所述磁极管的一磁铁，其特征在于，所述柱状弧源还包括连接于所述靶管的传动机构，所述传动机构驱动所述靶管转动。
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