[发明专利]制造集成电路的布局设计的系统和方法及计算机可读介质

摘要

本发明公开了一种制造集成电路的布局设计的形成方法。该方法包括基于设计标准生成集成电路的第一布局，生成集成电路的标准单元布局，基于第一布局和标准单元布局生成集成电路的通孔颜色布局，并基于设计规则对通孔颜色布局实施颜色检查。第一布局具有布置为多个第一行和多个第一列的第一组通孔。标准单元布局包括标准单元和布置在标准单元中的第二组通孔。通孔颜色布局包括第三组通孔。第三组通孔包括第二组通孔的部分和对应的位置，以及对应的通孔子组的颜色。本发明还公开了制造集成电路的布局设计的系统及计算机可读介质。

主权项

一种制造集成电路布局设计的形成方法，所述方法包括：基于设计标准生成所述集成电路的第一布局，所述第一布局具有布置为多个第一行和多个第一列的第一组通孔，所述第一组通孔的所述第一行布置在第一方向上，所述第一组通孔的所述第一列布置在不同于所述第一方向的第二方向上，基于对应的颜色将所述第一组通孔划分为通孔子组，所述颜色表示具有相同颜色的所述通孔子组中的通孔将形成在多个掩模组的相同掩模上，以及具有不同颜色的所述通孔子组中的通孔将形成在所述多个掩模组的不同掩模上；生成所述集成电路的标准单元布局，所述标准单元布局具有标准单元和布置在所述标准单元中的第二组通孔，所述第二组通孔的每两个通孔通过至少最小间距彼此分离；基于所述第一布局和所述标准单元布局生成所述集成电路的通孔颜色布局，所述通孔颜色布局具有第三组通孔，所述第三组通孔包括所述第二组通孔的部分和对应的位置、以及对应的通孔子组的颜色；以及基于设计规则对所述通孔颜色布局实施颜色检查，以及通过硬件处理器来实施上述操作中的至少一个。