[发明专利]用于TSV封装芯片的内部信号量测的方法有效
申请号: | 201710734193.7 | 申请日: | 2017-08-24 |
公开(公告)号: | CN107564829B | 公开(公告)日: | 2020-09-04 |
发明(设计)人: | 蔡斌;李建强;陈燕宁;邵瑾;乔彦彬;赵扬;刘晓昱 | 申请(专利权)人: | 北京智芯微电子科技有限公司;国网信息通信产业集团有限公司;国家电网公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 | 代理人: | 李晓康;张相午 |
地址: | 100192 北京市海淀区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明公开了一种用于TSV封装芯片的内部信号量测的方法,该方法包括如下步骤:S1,将待测TSV封装芯片的背面进行研磨抛光,以露出TSV通孔和硅基板;S2,在距离TSV通孔的边缘的硅基板上沉积一个SiO |
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搜索关键词: | 用于 tsv 封装 芯片 内部 信号量 方法 | ||
【主权项】:
一种用于TSV封装芯片的内部信号量测的方法,所述TSV封装芯片包括硅基板,所述硅基板上设置有多个TSV通孔,每个所述TSV通孔的下方均设置有芯片,其特征在于,所述方法包括如下步骤:S1,将待测TSV封装芯片的背面进行研磨抛光,以露出所述TSV通孔和所述硅基板;S2,在距离所述TSV通孔的边缘的所述硅基板上沉积一个SiO2薄膜区域,以隔离所述硅基板;S3,清理所述TSV通孔的表面;S4,在所述TSV通孔下方的所述芯片和所述SiO2薄膜之间沉积金属Pt;S5,在所述SiO2薄膜上沉积测试板;S6,使用探针与所述测试板接触,从而将测试力施加在所述芯片上,以实现所述芯片内部信号的量测。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造