[发明专利]沉积掩模组件有效
| 申请号： | 201710734487.X | 申请日： | 2017-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN107779816B | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 高晙赫;李丞赈 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种沉积掩模组件，包括：框架、成对的辅助掩模以及分体式掩模。框架包括供沉积材料穿过的开口区域以及共同限定开口区域的第一侧部、第二侧部、第三侧部和第四侧部。成对的辅助掩模位于框架上，固定至相对于框架的开口区域在第一方向上面向彼此的第一侧部和第三侧部，并且分别设置为邻近在与第一方向交叉的第二方向上面向彼此的第二侧部和第四侧部。分体式掩模与成对的辅助掩模中的每一个间隔开并固定至第一侧部和第三侧部。在第二方向上，成对的辅助掩模的宽度小于分体式掩模的宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 模组 | ||
【主权项】：
沉积掩模组件，包括：框架，包括：开口区域，沉积材料穿过所述开口区域，以及第一侧部、第二侧部、第三侧部和第四侧部，共同限定所述开口区域；成对的辅助掩模，位于所述框架上，所述成对的辅助掩模：固定至所述框架的所述第一侧部和所述第三侧部，所述第一侧部和所述第三侧部相对于所述框架的所述开口区域在第一方向上面向彼此，以及设置为分别邻近所述框架的所述第二侧部和所述第四侧部，所述第二侧部和所述第四侧部在与所述第一方向交叉的第二方向上面向彼此；以及分体式掩模，与所述成对的辅助掩模中的每一个间隔开，所述分体式掩模固定至所述框架的所述第一侧部和所述第三侧部，其中，在所述第二方向上，所述成对的辅助掩模中的每一个的宽度小于所述分体式掩模的宽度。
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