[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置有效
| 申请号： | 201710735340.2 | 申请日： | 2017-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN107507822B | 公开（公告）日： | 2020-06-02 |
| 发明（设计）人： | 张光明 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，以改善因标记图案的厚度，导致阵列基板的上表面在标记图案位置处高低不平的问题；进而解决在对阵列基板进行摩擦取向过程中，经过标记图案位置处时，导致摩擦布变形甚至破损的问题，从而改善显示效果。该阵列基板，包括位于阵列基板的标记区域中第一子区域的标记图案，还包括绝缘层；在标记区域内，绝缘层设置于除第一子区域以外的第二子区域，且标记图案的厚度与绝缘层的厚度之差小于标记图案的厚度；或者，在标记区域内，绝缘层覆盖标记图案，且绝缘层位于第一子区域的部分和标记图案的厚度和，与绝缘层位于第二子区域的部分的厚度之差，小于标记图案的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括位于所述阵列基板的标记区域中第一子区域的标记图案，其特征在于，还包括绝缘层；在所述标记区域内，所述绝缘层设置于除所述第一子区域以外的第二子区域，且所述标记图案的厚度与所述绝缘层的厚度之差小于所述标记图案的厚度；或者，在所述标记区域内，所述绝缘层覆盖所述标记图案，且所述绝缘层位于所述第一子区域的部分和所述标记图案的厚度和，与所述绝缘层位于所述第二子区域的部分的厚度之差，小于所述标记图案的厚度。
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