[发明专利]纳米金属光栅的制备方法及纳米金属光栅有效
| 申请号： | 201710739576.3 | 申请日： | 2017-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN107479121B | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 侯俊;卢马才 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B5/30;G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供纳米金属光栅的制备方法及纳米金属光栅，方法包括步骤：提供一基板，在基板上设置有金属层；在金属层上形成压印胶层；采用具有光栅周期图形的压印模板压印压印胶层；固化压印胶层，固化后移除压印模板，形成具有光栅周期图形的压印胶，在光栅周期图形的底部残留有压印胶；采用氧气灰化的方法去除残留压印胶，暴露出光栅周期图形的底部的金属层，并在暴露的金属层表面形成金属氧化物膜；去除具有光栅周期图形的压印胶；以金属氧化物膜为掩膜，图形化金属层，形成纳米金属光栅。本发明优点是，一、解决了现有技术中金属层氧化后刻蚀无法进行的难题；二、金属氧化物膜作为后续工艺的掩膜制作纳米金属光栅，且还可作为纳米金属光栅保护层。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 金属 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种纳米金属光栅的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：提供一基板，在所述基板上设置有一金属层；在所述金属层上形成压印胶层；采用具有光栅周期图形的压印模板压印所述压印胶层；固化所述压印胶层，固化后移除所述压印模板，形成具有光栅周期图形的压印胶，在光栅周期图形的底部残留有压印胶；采用氧气灰化的方法去除残留的压印胶，暴露出光栅周期图形的底部的金属层，并在暴露的金属层表面形成金属氧化物膜；去除具有光栅周期图形的压印胶；以金属氧化物膜为掩膜，图形化所述金属层，形成纳米金属光栅。
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