[发明专利]一种半导体薄膜四象限光照传感器及其制备方法有效
申请号: | 201710740273.3 | 申请日: | 2017-08-25 |
公开(公告)号: | CN109427923B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 刘生忠;秦炜;王辉;杜敏永;曹越先;张豆豆;李灿 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大连化学物理研究所 |
主分类号: | H01L31/028 | 分类号: | H01L31/028;H01L31/0296;H01L31/0304;H01L31/032;H01L31/108;H01L31/18;H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48 |
代理公司: | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 | 代理人: | 郑虹 |
地址: | 116023 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种半导体薄膜四象限光照传感器及其制备方法。该传感器具有多层结构,从光入射面由表及里依次为光阑、衬底、顶电极、半导体薄膜光电转化层、背电极和保护层;所述传感器顶电极、半导体薄膜光电转化层、背电极具有阵列结构,其中每个单元所包含的顶电极、半导体薄膜光电转化层、背电极相互连通,单元之间的半导体薄膜光电转化层、背电极彼此不连通。本发明所述传感器的光电转化层为半导体薄膜材料,使器件阻抗显著增加,提高了测量稳定性。本发明所述制备方法,使器件加工精度显著增加,提高了测量精确度。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 薄膜 象限 光照 传感器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于半导体薄膜光电转化层的四象限光照传感器,其特征在于该传感器具有多层结构,从光入射面由表至里由光阑、衬底、顶电极、半导体薄膜光电转化层、背电极和保护层组成;所述光阑位于衬底上靠近光入射一侧,光阑设有开孔;所述顶电极位于衬底和半导体薄膜光电转化层之间,顶电极上设置顶电极有效区和顶电极无效区;所述半导体薄膜光电转化层位于顶电极和背电极之间,半导体薄膜光电转化层与背电极具有一致的背电极有效区和背电极无效区;所述顶电极有效区和背电极有效区部分重叠形成光电有效区;所述保护层,位于背电极表面,覆盖光电有效区全部区域,覆盖顶电极有效区和背电极有效区部分区域,所述传感器顶电极、半导体薄膜光电转化层、背电极具有阵列结构,其中每个单元所包含的顶电极、半导体薄膜光电转化层、背电极相互连通,单元之间的半导体薄膜光电转化层、背电极彼此不连通。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院大连化学物理研究所,未经中国科学院大连化学物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710740273.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的