[发明专利]细胞培养基体及其制作方法、细胞膜片分离方法在审
| 申请号： | 201710741950.3 | 申请日： | 2017-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN109423447A | 公开（公告）日： | 2019-03-05 |
| 发明（设计）人： | 简秀纹 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C12M3/04 | 分类号： | C12M3/04;C08J7/12;C08L33/24;C12N5/00 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 薛晓伟 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： |
一种细胞培养基体，其包括一柱状基底及形成于所述柱状基底的外壁上的光致断裂层，所述光致断裂层包括多个化学结构式为 |
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| 搜索关键词： | 烷烃基 细胞培养 断裂基团 断裂层 基底 外壁 柱状 化学结构式 细胞膜片 烯烃基 酰氨基 键接 氢基 制作 | ||
【主权项】：
1.一种细胞培养基体，其特征在于，所述细胞培养基体包括一柱状基底及形成于所述柱状基底的外壁上的光致断裂层，所述光致断裂层包括多个化学结构式为![]()
的光致断裂基团，其中，R1基团及R3基团为烷烃基，R2基团至少包括烷烃基或烯烃基，R5基团、R6基团及R7基团为氢基及烷烃基中的一种，所述光致断裂基团通过酰氨基键接于所述外壁。
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