[发明专利]掩膜条及其制备方法、掩膜板有效
| 申请号： | 201710742464.3 | 申请日： | 2017-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN109423600B | 公开（公告）日： | 2020-01-07 |
| 发明（设计）人： | 张健;黄俊杰;林治明;张新建;王琦;郝志元;张德;刘德健;王震;孙朴 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 汪源;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜条及其制备方法、掩膜板，包括：掩膜条主体包括：沿预设拉伸方向排布的若干个掩膜单元，掩膜单元包括：掩膜区域和非掩膜区域，非掩膜区域上与掩膜条主体的边缘的距离小于等于第一预设距离的点所构成的区域为边侧区域，边侧区域内与对应的掩膜区域之间的距离小于等于第二预设距离的点所构成的区域为原始应力集中区域，边侧区域内除原始应力集中区域之外的其他区域内至少部分位置设置有应力集中结构。本发明的技术方案通过在边侧区域内除原始应力集中区域之外的其他区域内至少部分位置设置应力集中结构，可使得掩膜条在被拉伸时，边侧区域的应力分布更为均匀，从而能有效减小边侧区域的褶皱的幅度，提升蒸镀效果。 | ||
| 搜索关键词： | 侧区域 掩膜条 掩膜区域 应力集中区域 应力集中结构 掩膜单元 预设距离 制备 褶皱 拉伸方向 应力分布 掩膜板 减小 拉伸 排布 掩膜 预设 蒸镀 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜条，其特征在于，包括：掩膜条主体，掩膜条主体包括：沿预设拉伸方向排布的若干个掩膜单元，所述掩膜单元包括：掩膜区域和围绕所述掩膜区域的非掩膜区域，所述非掩膜区域内与所述掩膜条主体的边缘的距离小于等于第一预设距离的点所构成的区域为边侧区域，所述边侧区域内与对应的掩膜区域之间的距离小于等于第二预设距离的点所构成的区域为原始应力集中区域，所述边侧区域内除所述原始应力集中区域之外的其他区域内至少部分位置设置有应力集中结构；所述应力集中结构包括：呈阵列排布的若干个凹槽。/n
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