[发明专利]一种铁酸铋薄膜及其制备方法

摘要

本发明涉及薄膜制备技术领域，具体涉及一种铁酸铋薄膜及其制备方法。所述铁酸铋薄膜采用电化学沉积的方法制备而成。该方法首先将硝酸铋溶液和硝酸铁溶液配制成电解液，然后经沉积反应得到铁酸铋薄膜。本发明使用电化学沉积的方法制备铁酸铋薄膜，沉积速率高，沉积过程所需的温度却较低，可以用简单的手段实现掺杂，并沉积在复杂的基片上，并可以通过改变电化学的参数来得到不同厚度、性能不同的铁酸铋薄膜，该方法需要的设备与操作简单，成本较低，适合进行大规模的工业生产。

主权项

1.一种铁酸铋薄膜，其特征在于，所述铁酸铋薄膜采用电化学沉积的方法制备而成；该方法首先将硝酸铋溶液和硝酸铁溶液配制成电解液，然后经沉积反应得到铁酸铋薄膜；具体包括如下步骤：1)处理ITO基片：清洗基片表面的杂质及污染物，确保基片保持干净无污染；2)配制电解液：取6~25ml浓度为0.001~0.01mol/L的硝酸铋溶液和6~25ml浓度为0.001~0.01 mol/L的硝酸铁溶液，使得硝酸铋溶液和硝酸铁溶液的体积比为2：3，得到混合溶液，并向混合溶液中加入冰乙酸得到电解液；冰乙酸的加入量为1~10ml；最后加入1～3克聚乙烯吡咯烷酮、2‑5ml的乙醇或丙酮溶液；3) 组装电解池：将电解液置于电解池中，将电解池置于恒温水浴锅内，把水浴锅的温度设为20~40℃，再把处理好的基片和铂电极以及Ag/Cl参比电极以垂直的角度放置在电解池中；确保基片浸入电解液的面积是1×2cm²，基片的导电面与铂电极平行相对，间距为1 cm，然后把电化学工作站与电解池连接；4) 采用恒电位极化：电位范围为‑0.7~‑0.2V；5) 沉积铁酸铋薄膜：用控制变量的方法，控制电解液的浓度为0.001~0.01 mol/L、pH为1~3、温度为20~40℃、电位为‑0.7~‑0.2V和沉积时间为300~1100 s，在基片上沉积得到铁酸铋薄膜。