[发明专利]下电极机构及反应腔室在审
| 申请号： | 201710749263.6 | 申请日： | 2017-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN107610999A | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 赵晋荣;简师节 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 彭瑞欣,张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种下电极机构及反应腔室，其包括基座，在基座与腔室底壁之间设置有绝缘环，以在基座的底面的边缘区域与腔室底壁之间形成等效电容，该等效电容由至少两种不同介质填充形成的平行板电容并联而成。本发明提供的下电极机构，可以实现对下电极机构对地电容的调节，从而可以使型号相同的工艺设备的一致性满足要求。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 机构 反应 | ||
【主权项】：
一种下电极机构，包括基座，在所述基座与所述腔室底壁之间设置有绝缘环，以在所述基座的底面的边缘区域与所述腔室底壁之间形成等效电容，其特征在于，所述等效电容由至少两种不同介质填充形成的平行板电容并联而成。
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