[发明专利]一种微流道结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710750856.4 申请日: 2017-08-28
公开(公告)号: CN107497507B 公开(公告)日: 2019-09-27
发明(设计)人: 毛海央;李锐锐;杨宇东 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;昆山光微电子有限公司
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 南京思拓知识产权代理事务所(普通合伙) 32288 代理人: 张涛
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种微流道结构,尤其是一种微流道结构及其制备方法,属于微流道的技术领域。按照本发明提供的技术方案,所述微流道结构,包括微流道衬底;还包括设置于微流道衬底上的图形化烛灰纳米颗粒层,利用所述图形化烛灰纳米颗粒层能在微流道衬底上形成所需的表面微流道阵列。本发明结构紧凑,能实现试剂中生物、化学相关物质在基底表面的图形化,制备工艺简单易行,适用的生物、化学物质范围广,衬底材料的可选择范围宽,具有普遍适用性,安全可靠。
搜索关键词: 一种 微流道 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种微流道结构,包括微流道衬底;其特征是:还包括设置于微流道衬底上的图形化烛灰纳米颗粒层,利用所述图形化烛灰纳米颗粒层能在微流道衬底上形成所需的表面微流道阵列;表面微流道阵列内包括若干表面微流道,表面微流道的形状包括直线型、T字型、Y字型或枝杈网络型;表面微流道具有入液口(9)、出液口(23)以及流通道(10),入液口(9)通过流通道(10)与出液口(23)连通;所述入液口(9)、出液口(23)以及流通道(10)为贯通图形化烛灰纳米颗粒层的窗口区域;在所述图形化烛灰纳米颗粒层上设置致密薄膜保护层,所述致密薄膜保护层覆盖在图形化烛灰纳米颗粒层上以及图形化烛灰纳米颗粒层的侧壁;所述致密薄膜保护层包括Parylene C,所述致密薄膜保护层的厚度为50nm~10μm;所述微流道衬底包括硅衬底、玻璃衬底、载玻片、金属、聚合物、柔性基底或表面设置有支撑层的薄膜衬底,所述薄膜衬底的支撑层为硅、氧化硅、氮化硅、氮化钛、多晶硅、聚合物或金属中的一种、两种或多种组合。
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