[发明专利]微波染色设备有效
申请号: | 201710750984.9 | 申请日: | 2017-08-28 |
公开(公告)号: | CN109423791B | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 洪政源;田伟辰;吴以德 | 申请(专利权)人: | 财团法人金属工业研究发展中心 |
主分类号: | D06B3/10 | 分类号: | D06B3/10;D06B23/22;D06P5/20 |
代理公司: | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 | 代理人: | 王正茂;丛芳 |
地址: | 中国台湾高雄市楠*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种微波染色设备,其包含腔体、微波信号源以及微波遮罩。腔体用以盛装染液并使纺织物浸置于染液中。微波信号源用以在腔体的内部发射微波信号,以对纺织物进行染色处理。微波遮罩设置于腔体中,其与染液的液面之间具有一定距离,且其选择性地对微波信号进行滤波处理。本发明的微波染色设备可减少染色加工时间及成本,并可控制纺织物的着色度,且可减少废水的产生,避免严重污染和破坏环境。 | ||
搜索关键词: | 微波 染色 设备 | ||
【主权项】:
1.一种微波染色设备,其特征在于,包含:腔体,其用以盛装染液并使纺织物浸置于所述染液中;微波信号源,用以在所述腔体的内部发射微波信号,以对所述纺织物进行染色处理;以及微波遮罩,设置于所述腔体中且与所述染液的液面之间具有一定距离,所述微波遮罩选择性地过滤所述微波信号,以改变在所述腔体内所述纺织物浸置于所述染液中的电场强度分布。
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