[发明专利]一种粒子场全息同轴和离轴再现光路系统及方法在审

专利信息
申请号: 201710757551.6 申请日: 2017-08-29
公开(公告)号: CN107688284A 公开(公告)日: 2018-02-13
发明(设计)人: 徐青;曹娜;雷岚;马继明;韩长材 申请(专利权)人: 西北核技术研究所
主分类号: G03H1/22 分类号: G03H1/22
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司61211 代理人: 杨引雪
地址: 710024 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明具体涉及一种粒子场全息同轴和离轴再现光路系统及方法。系统包括光源扩束准直系统、反射镜系统、再现采集系统和调节光轴的辅助系统;光源扩束准直系统包括沿光路依次设置的再现光源、扩束镜、滤波针孔和准直镜;反射镜系统包括全反射镜一和全反射镜二;再现采集系统包括全息干板、成像物镜、采集相机、支架一、支架二、移动平台控制器和控制计算机;调节光轴的辅助系统包括氦氖激光器、光阑、十字圆圈半靶和十字圆圈全靶;本发明实现了粒子场同轴和离轴全息再现系统共用大部分光路的目的,提高了适应性。
搜索关键词: 一种 粒子 全息 同轴 再现 系统 方法
【主权项】:
一种粒子场全息同轴和离轴再现光路系统,其特征在于:包括光源扩束准直系统、反射镜系统、再现采集系统和调节光轴的辅助系统;所述光源扩束准直系统包括沿光路依次设置的再现光源、扩束镜、滤波针孔和准直镜;所述反射镜系统包括全反射镜一和全反射镜二,所述全反射镜一沿光路设置在准直镜的后方,所述全反射镜二设置在全反射镜一的侧面;全反射镜一和全反射镜二均安装在调节支架上;所述再现采集系统包括全息干板、成像物镜、采集相机、支架一、支架二、移动平台控制器和控制计算机;支架一用于夹持全息干板,两个支架二分别用于支撑成像物镜和采集相机,支架一设置在移动平台x轴y轴组合体上;两个支架二设置在移动平台z轴上;所述调节光轴的辅助系统包括氦氖激光器、光阑、十字圆圈半靶和十字圆圈全靶;所述氦氖激光器和光阑沿光路依次设置在全反射镜一后方;所述全息干板、十字圆圈半靶、成像物镜、十字圆圈全靶、采集相机沿光路依次设置在光阑后方;十字圆圈半靶和十字圆圈全靶均设置在具有复位功能的支架三上;所述移动平台控制器分别与移动平台x轴y轴组合体、移动平台z轴连接,所述控制计算机分别与采集相机和移动平台控制器连接。
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