[发明专利]光刻工艺热点的整合方法有效
| 申请号： | 201710757929.2 | 申请日： | 2017-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN107422613B | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 朱忠华;王伟斌 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光刻工艺热点的整合方法，包括：提供具有多个光刻工艺热点的图形库；以所述光刻工艺热点为中心，截取每个所述光刻工艺热点对应图形的部分区域，形成初级热点图形库；定义整合规则，去除所述初级热点图形库中的相同图形或相近图形，将所述初级热点图形库整合成未压缩的中级热点图形库；定义压缩规则，设定约束条件、归类相似图形，将所述中级热点图形库压缩为高级热点图形库。本发明中，最终产生的压缩版高级热点图形库匹配精度不下降，热点无遗漏。此外，本发明能够将热点图形库中数以千万计的热点通过整合压缩，最终生成热点数量在千级以内的图形库，减少热点数量，便于热点的进一步有效管理。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 工艺 热点 整合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻工艺热点的整合方法，其特征在于，包括：提供具有多个光刻工艺热点的图形库；以所述光刻工艺热点为中心，截取每个所述光刻工艺热点对应图形的部分区域，形成初级热点图形库；定义整合规则，去除所述初级热点图形库中的相同图形或相近图形，将所述初级热点图形库整合成未压缩的中级热点图形库；定义压缩规则，设定约束条件以及归类相似图形，将所述中级热点图形库压缩为高级热点图形库。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710757929.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电池包双头卧式自动点焊组装机
- 下一篇：电池极片集流体与极柱一体化焊接装置
