[发明专利]水膜发生装置及显影机、清洗机在审

专利信息
申请号: 201710761357.5 申请日: 2017-08-30
公开(公告)号: CN107340616A 公开(公告)日: 2017-11-10
发明(设计)人: 马海买提 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 代理人: 孙伟峰,顾楠楠
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种水膜发生装置,包括喷嘴,所述喷嘴包括基座、与基座可拆卸地连接的前盖,所述基座与前盖之间密封连接,所述基座的下端面上设有狭缝状的喷孔,在基座上设有进水孔,所述基座与前盖相对的一侧表面设有凹槽,凹槽与喷孔以及进水孔连通。本发明还提供了一种显影机以及清洗机,包括所述的水膜发生装置。本发明与现有技术相比,采用基座与可拆卸的前盖,两者密封连接并在基座的下端面设有狭缝状的喷孔,使得能够保持水膜完整性,可拆卸的结构实现了在堵塞时容易清理,喷孔为狭缝状加工成本低。
搜索关键词: 发生 装置 显影 清洗
【主权项】:
一种水膜发生装置,其特征在于:包括喷嘴(1),所述喷嘴(1)包括基座(2)、与基座(2)可拆卸地连接的前盖(3),所述基座(2)与前盖(3)之间密封连接,所述基座(2)的下端面上设有狭缝状的喷孔(4),在基座(2)上设有进水孔(21),所述基座(2)与前盖(3)相对的一侧表面设有凹槽(22),凹槽(22)与喷孔(4)以及进水孔(21)连通。
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